IC photoresist

     KMP C7500系列光刻膠是高分辨I線光刻膠,其采用了獨特的樹脂結構及具有高分辨性能的感光劑,在0.75um膜厚下可以實現0.35um的分辨率。該系列光刻膠具有不同的粘度,其膜厚范圍為0.5-2.0um,同時具有感光速度快、分辨率高及工藝窗口大等優點,適用于集成電路制造工藝中對分辨率要求較高的i線層,已經廣泛商用于國內先進集成電路制造業企業。

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