IC photoresist

     KMP DK1080是國內首款商業化的248nmDUV(KrF)光刻膠,由本公司獨立開發完成,并實現向國內先進集成電路制造企業的批量供貨。

     KMP DK1080適用于集成電路制造中有Implant Layer工藝,在不使用底部抗反射涂層(BARC)時仍能消除由干涉引起的駐波效應,得到陡直的形貌。其膜厚范圍為6000-9000A,分辨率達0.25um,同時具有快速的感光速度及優異的工藝窗口。

產品數據>

5分赛车开结果 青海西宁体彩十一选五 山东11选5怎么玩 河南快三遗漏号码 广东快乐10分怎么玩 秒速赛车提前开奖网站 二分时时彩怎么玩 网投现金平台 体彩泳坛夺金任2技巧 东方6十1最新开奖查询 2013急速赛车 河北11选5走势图技巧 股城模拟炒股软件 股票指数涨有什么用自己的股票不一定涨 甘肃快3开奖现场直播 哪个网站看海南飞鱼开奖 体彩快乐扑克3玩法