IC photoresist

     KMP C5300系列光刻膠是G/I線通用正性光刻膠,其在1.2um膜厚下可實現0.6um的分辨率,該系列光刻膠感光速度快(1.25um時,Eop達65mJ/cm2),該系列光刻膠具有不同粘度的產品,其膜厚范圍為0.75-2.5um,同時具有感光速度快、分辨率高及工藝窗口大等優點,適用于集成電路制造工藝中對分辨率要求不高的i線層,已經廣泛商用于國內先進集成電路制造業企業。

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