IC photoresist

     KMP DK1080是國內首款商業化的248nmDUV(KrF)光刻膠,由本公司獨立開發完成,并實現向國內先進集成電路制造企業的批量供貨。

     KMP DK1080適用于集成電路制造中有Implant Layer工藝,在不使用底部抗反射涂層(BARC)時仍能消除由干涉引起的駐波效應,得到陡直的形貌。其膜厚范圍為6000-9000A,分辨率達0.25um,同時具有快速的感光速度及優異的工藝窗口。

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